スパッタリングターゲット
当社はターゲットメーカーとして生産用・研究用の各種金属・化合物・ターゲットを製造しております。

金属
Al、Ni、Cuなどの各種金属ターゲットを製作しております。
合金
磁性膜用Ni-Feなど各種合金ターゲットを製造しております。
酸化物
透明導電膜用のITO、AZOをはじめ誘電体用ターゲットなど各種酸化物を製造しております。
混合酸化物
スパッタリングターゲットなどに使用できる各種混合酸化物、複合酸化物を取りそろえております。用途に合わせたサイズ・仕様での加工が可能です。
非酸化物
半導体電極用シリサイド系や絶縁保護膜用、反射防止膜用などの非酸化物を各種製造しております。
一例)
- ナイトライド系 AlN, TiN など
- ボライド系 LaB6, TiB2 など
- フロライド系 MgF2
その他ご要望の混合物の試作を承っております。
お問い合わせ
スパッタリングターゲットや半導体材料、単結晶など新素材の製造販売をおこなうフルウチ化学は、
可能な限りお客様のご要望にお応えすべく全力を挙げておりますので、お気軽にお問い合わせください。